Cu-Cu2OBiVO4光催化膜的制备及其可见光催化活性

来源 :2006年全国太阳能光化学与光催化学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lcm2005
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BiVO4作为铁电材料和无毒的环境友好颜料曾被广泛研究,近年来由于mBiVO4在可见光范围具有很好的吸收,而且其价带氧化电位位于2.4V附近,具有较高氧化能力,因此其光催化特性引起了人们极大兴趣.然而mBiVO4的导带边位于0 V(vs.NHE),致使其光生电子的能量不足以还原H+,而且其光生电子也不容易被空气中的氧气捕获,因此会导致光生电子在催化剂表面积累,增加电子与空穴的复合几率,使mBiVO4在可见光下降解有机物的效率较差.因此在这种情况下快速捕获光激发电子,抑制其与高能空穴的复合,对提高此类光催化剂可见光催化降解污染物的效率是至关重要的.为了提高BiVO4的光催化效率,我们开展了多方面的研究工作.本文探讨了铜在mBiVO4薄膜的沉积及其对它的表面修饰和光电调控作用。
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