【摘 要】
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采用典型的化学气相沉积的方法在无模板、无催化剂的情况下成功地制备出了宏量、均匀的氮化硼纳米片结构,制备温度在1100-1300摄氏度之间。通过调节合成参数,氮化硼纳米片的
【机 构】
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山东大学材料液态结构及其遗传性教育部重点实验室,山东 济南 250061
【出 处】
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第七届全国材料科学与图像科技学术会议
论文部分内容阅读
采用典型的化学气相沉积的方法在无模板、无催化剂的情况下成功地制备出了宏量、均匀的氮化硼纳米片结构,制备温度在1100-1300摄氏度之间。通过调节合成参数,氮化硼纳米片的厚度可以在25-50纳米之间调节。用X射线衍射仪对产物的结构及成分进行了研究,证明产物为六方氮化硼结构,又采用场发射扫描电镜、透射电镜、高分辨电镜对产物的形貌进行了细致观察,产物是由大量纳米片结构组成。傅利叶红外转换光谱以及电子能量损失光谱表明产物具有氮化硼典型的sp2杂化结构。阴极发光光谱对氮化硼纳米片的光学性能进行了详细研究,分析表明氮化硼纳米片在紫外区域具有很强的紫外发光性能,并且该发光性还与纳米片的厚度有关,这就使得氮化硼纳米片成为一种理想的制作紫外激光器件的材料。
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