【摘 要】
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本文主要将膜层的厚度、硬度和致密层在总膜厚中所占的比率作为评价陶瓷膜的指标,研究各电源参数(包括电流密度、脉冲频率,正负向电流比值)对铝合金微弧氧化陶瓷膜上述指标的
【机 构】
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哈尔滨工业大学机电工程学院,哈尔滨,150001
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本文主要将膜层的厚度、硬度和致密层在总膜厚中所占的比率作为评价陶瓷膜的指标,研究各电源参数(包括电流密度、脉冲频率,正负向电流比值)对铝合金微弧氧化陶瓷膜上述指标的影响.并对正负半波的离子运动状态进行了探讨.结果表明:在相同氧化时间内,随着电流密度的增加,陶瓷膜的厚度和致密层的显微硬度也显著的增加,但氧化膜中致密层的厚度所占的比率是逐渐下降的,其增长明显趋于平缓;随着脉冲频率的增加,膜层厚度下降很快,致密层的硬度迅速下降,致密层所占比率却逐渐升高;不同的I+/I–比值得到的膜层厚度有显著的不同,致密层的硬度所占的比率随I+/I–比值降低而升高.
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