V205(010)表面吸附氨分子和水分子的密度泛函研究

• 作 者: 孙克勤[1]钟秦[2]黄丽娜[3]
• 机 构: 南京理工大学 化工学院，江苏 南京 210094 江苏省电厂废气污染治理工程技术研究中心 苏源环保工程股份有限公司，江苏 南京 210008
• 出 处: 第五届火电厂氮氧化物排放控制技术研讨会
• 发表日期: 2008年期

利用密度泛函理论的B3LYP方法和原子簇模型，对NH3、H2O分子在选择性催化还原脱硝催化剂表面不同吸附位上的吸附情况进行了理论研究。结果表明：NH3能吸附在V2O5表面的Lewis和Bronsted酸位，但在后者吸附位上更稳定。当V2O5负载量较大时，NH3能与O(1)H生成稳定的NH4+，该物质在SCR反应中起着关键作用，吸附能为-128kJ/mol。同时水也可与该吸附位形成稳定构型，吸附能为-97kJ/mol。在V2O5表面，水与反应物NH3的吸附能相当，两者发生竞争吸附，从而在一定程度上对SCR脱硝催化反应产生抑制作用。