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带栅极定位镀膜硅微尖锥阵列研制及其场发射特性研究
带栅极定位镀膜硅微尖锥阵列研制及其场发射特性研究
来源 :第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:a391137182
【摘 要】
:
本文介绍了制备带栅极定位镀膜硅微尖锥阵列的技术,并对面积为0.25mm2、40×40DLC薄膜的硅微尖锥阵列的样品进行了场发射特性测试,在栅极电压为200V时获得0.23A/cm2的发射电
【作 者】
:
佘峻聪
何浩
邓少芝
陈军
许宁生
【机 构】
:
光电材料与技术国家重点实验室,显示材料与技术广东省重点实验室,中山大学,广州,510275
【出 处】
:
第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会
【发表日期】
:
2005年期
【关键词】
:
栅极电压
定位
镀膜
硅微尖锥
阵列
场发射
发射电流密度
特性测试
样品
面积
技术
薄膜
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本文介绍了制备带栅极定位镀膜硅微尖锥阵列的技术,并对面积为0.25mm2、40×40DLC薄膜的硅微尖锥阵列的样品进行了场发射特性测试,在栅极电压为200V时获得0.23A/cm2的发射电流密度.
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