弧热氮原子束辅助脉冲激光溅射合成ZnSe:N薄膜

• 作 者: 许宁 应质峰 杜元成
• 机 构: 材料改性国家重点联合实验室物理系,复旦大学(上海)
• 出 处: 1998年中国材料研讨会
• 发表日期: 1998年期
• 关键词: 原子束辅助 脉冲激光溅射 合成 薄膜 氮原子 Ｘ射线 射线衍射 溅射方法 光电子谱 多晶 等离子体 沉积过程 生长面 溅射靶 组成 射出 人员 抛光 构成 氮气

研究人员用弧热氮原子束辅助脉冲激光溅射方法沉积ＺｎＳｅ掺氮薄膜。溅射靶采用多晶ＺｎＳｅ片，衬底采用抛光ＧａＡｓ（１００）和Ｓｉ（１１１）片。一台弧热束源被用来分解氮气，含大量中性氮原子的出射束（１０〈’１８〉￣１０〈’１９〉原子／弧度·秒）在沉积过程中同溅射出的等离子体和薄膜生长面相互作用合成Ｎ掺杂ＺｎＳｅ薄膜。Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）表明薄膜由ＺｎＳｅ单晶或多晶构成。Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）表明薄膜主要由Ｚｎ、Ｓｅ和Ｎ组成。