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直流等离子体喷射化学气相沉积（ＤＣ Ｐｌａｓｍａ ＪＥＴ ＣＶＤ）金刚石膜的核心技术为等离子炬。采用独立研制的磁控长通道高电压放电等离子炬，基本上解决了高速大面积均匀生长金刚石膜的径向不均匀性问题。
电弧等离子体技术在化学气相沉积金刚石膜中的应用
【摘 要】
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直流等离子体喷射化学气相沉积（ＤＣ Ｐｌａｓｍａ ＪＥＴ ＣＶＤ）金刚石膜的核心技术为等离子炬。采用独立研制的磁控长通道高电压放电等离子炬，基本上解决了高速大面积均匀生长金刚石膜的径向不均匀性问
【机 构】
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省科学院
【出 处】
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第八次全国焊接会议
【发表日期】
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1997年期
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