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该文介绍了利用可变矩形束电子束曝光机，在制作亚微米器工作中遇到的工艺技术难点及采用的相应技术方案，描述了为适应制作亚微米图形，采用的几步关键调机方法，给出了有关可变矩形束斑的调整，成形方光阑位置及旋转角度的调整，扫描场拼接的修正等几种特殊手段。经过不断努力，作者现已研制了最细线宽达０．５μｍ的多个品种亚微米器件。