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会议论文
洁净室化学污染控制技术展望
洁净室化学污染控制技术展望
来源 :第六届中国国际(上海)洁净技术论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:eric2751
【摘 要】
:
本文分析了在电子零部件和半导体生产工艺中化学污染物质的来源及危害,然后介绍了防止化学污染技术和四项原则:"防止化学污染物的侵入,防止发生,净化处理,防止扩散"等.
【作 者】
:
高桥 惇
【机 构】
:
高砂热学工业株式会社综合研究所
【出 处】
:
第六届中国国际(上海)洁净技术论坛
【发表日期】
:
2003年10期
【关键词】
:
洁净室
化学污染控制
电子产业
化学污染物
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本文分析了在电子零部件和半导体生产工艺中化学污染物质的来源及危害,然后介绍了防止化学污染技术和四项原则:"防止化学污染物的侵入,防止发生,净化处理,防止扩散"等.
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