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φ3″<100>区熔硅单晶的研制
【机 构】
:
洛阳单晶硅厂
【出 处】
:
中国有色金属学会硅材料学术会议
【发表日期】
:
1990年期
其他文献
该文分析了研究了亲水键合法存在的问题,发明了硅/锗/硅合新方法。试验研究了新方法的机理、键合工艺技术和键合强度,键合率以及与亲水键合方法的对比。