φ3″<100>区熔硅单晶的研制

来源 :中国有色金属学会硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zzptt
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该文分析了研究了亲水键合法存在的问题,发明了硅/锗/硅合新方法。试验研究了新方法的机理、键合工艺技术和键合强度,键合率以及与亲水键合方法的对比。
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