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通过溶胶凝胶技术首次合成Lu2Ti2O7纳米薄膜,研究表明: 纯Lu2Ti2O7纳米薄膜不能在硅基片上获得,即使煅烧温度提高至1050℃,而且原子力显微镜观察数据表明:获得的薄膜的表面粗糙度高达10.073nm.通过设计煅烧模式, 纯Lu2Ti2O7纳米薄膜可以在低温600℃合成.同时表面粗糙度降低至2.6573nm.进一步研究表明:薄膜的电性能和薄膜的粗糙度,结晶度以及煅烧后残留应力密切相关.