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Characteristics of Amorphous Carbon Film Prepared by Hybrid RF (195 kHz) Plasma Triggered by Shuntin
【机 构】
：
Faculty of Engineering, Iwate University, Morioka, Iwate 020-8551, Japan
【出 处】
：
The 11th International Workshop on Plasma-Based Ion Implanta
【发表日期】
：
2011年期
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