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直流反应磁控溅射方法制备硅掺杂纳米TiO2薄膜及其光电性能

来源 :第十六届全国电化学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：shize

【作 者】

：

孙钰珺 沈杰 崔晓莉 

【机 构】

：

复旦大学材料科学系,上海,200433

【出 处】

：

第十六届全国电化学会议

【发表日期】

：

2011年8期

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