表面势差调制的肽氰分子在6H-SiC(0001)表面外延少层石墨烯上的逐层吸附

来源 :中国化学会第28届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xdt1973
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  自2004年,A.K.Geim等人成功地制备出二维石墨烯以来,由于其良好的机械性能和物理学性质,石墨稀已经成为学术界研究的热点材料.6H-SiC(0001)表面外延生长的石墨烯具有原子级平整、大范围均匀、层数可控等优点,是一种非常重要的研究石墨稀基本物理/化学特性以及其相关应用的理想材料.我们通过对少层外延石墨烯的静电力显微镜(EFM)研究发现,石墨烯的表面势随层数变化,这种表面势的变化可以引起表面分子吸附的优先选择.Pc分子优先吸附在单层石墨烯区域,随着分子覆盖度的增加,逐层吸附在双层和多层石墨烯上.同时,利用DFT理论计算了不同厚度石墨烯表面的吸附能和表面电荷性质,对于我们的实验结果进行了理论解释.
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