场致发射中离子轰击问题的研究

来源 :第八届中国场致发射与真空微电子学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wanghn019
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在场致发射器件中,发射电流的稳定性是衡量器件质量的一个重要因素.由于在器件中存在残余气体,从场致发射体发出的电子与气体分子相互作用,电离产生离子.这些正离子在电场力的作用下,回轰发射体表面,使发射体尖端形状受到损伤,改变了电场分布,最后造成发射电流的衰减.本文利用一套计算机模拟程序,分析了电子束电离产生离子,以及离子回轰发射体表面造成阴极损伤的过程.得到了发射电流衰减与残余气体压强,发射体工作时间的关系.这些结论为更准确地分析发射体的发射特性提供了大量有用信息.
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