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现代应用需求使半导体器件向高频高速方向发展,PHEMT以其高频高速低噪声受到人们重视而发展迅速.在PHEMT的制作工艺中,栅线条的制作是至关重要而又极为困难的.我们采用X射线多层介质工艺制作T型栅,其形貌清晰,线条基本可控,为MMIC制作提供了可靠的工艺手段.
X射线光刻多介质T型栅制作技术
【摘 要】
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现代应用需求使半导体器件向高频高速方向发展,PHEMT以其高频高速低噪声受到人们重视而发展迅速.在PHEMT的制作工艺中,栅线条的制作是至关重要而又极为困难的.我们采用X射线多层介质工艺制作T型栅,其形貌清晰,线条基本可控,为MMIC制作提供了可靠的工艺手段.
【机 构】
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天津大学电子信息工程学院,99研 中科院微电子中心,650信箱
【出 处】
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第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
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2001年6期
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