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介绍了钛(TA2)及钛合金(TC4)经活化处理，生成“活性膜”的工艺，通过电子能谱分析确定了“活性膜”生成机理及在“活性膜”上直接电镀的可行性。
钛及钛合金表面“活性膜”的生成和直接电镀工艺研究
【摘 要】
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介绍了钛(TA2)及钛合金(TC4)经活化处理，生成“活性膜”的工艺，通过电子能谱分析确定了“活性膜”生成机理及在“活性膜”上直接电镀的可行性。
【机 构】
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哈尔滨工业大学 150001
【出 处】
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2003年国际轻金属表面精饰技术论坛
【发表日期】
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2003年期
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