【摘 要】
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如何提高光催化材料的可见光响应及其光催化产氢性能是人们长期关注的课题,而对宽带隙半导体进行染料敏化是其可行方案之一[1]。常用的钌联吡啶类配合物染料以及纯有机染
【机 构】
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武汉大学化学与分子科学学院 武汉 430072
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如何提高光催化材料的可见光响应及其光催化产氢性能是人们长期关注的课题,而对宽带隙半导体进行染料敏化是其可行方案之一[1]。常用的钌联吡啶类配合物染料以及纯有机染料的光谱吸收范围大多数很难超过 600 nm,且其敏化半导体的产氢表观量子产率较低[2]。因此,我们从能带调控角度出发,设计合成了新型的钌联吡啶类染料和高度非对称酞菁衍生物(图 1),并利用钌联吡啶类染料的天线效应和建立基态染料在半导体表面的吸附与氧化态染料的脱离之间的动态平衡来提高敏化半导体的光俘获效率和光催化产氢性能；而利用高度非对称酞菁衍生物优异的红光/近红外光(600～800 nm)响应能力,将敏化半导体的光谱响应范围拓展到 700 nm 以上(图 2)[3]。并在此基础上探索具有互补吸收光谱的染料,构建全色段光响应的共敏化半导体体系以便更有效地利用太阳光。
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