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电化学阻抗谱(EIS)结合阵列电极(WBE)技术研究了浸泡在3.5％NaCl溶液中的缺陷涂层的劣化过程.从浸泡开始到完好涂层鼓泡失效，缺陷涂层阵列电极阻抗响应一直是缺陷区电极过程特征.而根据电极表面的电流分布，结合阻抗谱技术实现了对表面任意局部阴极和阳极区阻抗测试.研究发现，浸泡开始时，缺陷涂层阴极电流和阳极电流均出现在缺陷区，随着腐蚀过程的发展，阳极电流仍然保持在缺陷区，但阴极电流逐渐向完好涂层下扩展.根据实验结果，对缺陷处和涂层下金属腐蚀反应发生发展的腐蚀机理进行了渗入讨论.