磁控溅射法制备玻璃基Ti/TiO2装饰膜及其性能研究

来源 :2013全国玻璃科学技术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lnclnc

【摘要】

：

在普通玻璃衬底上采用磁控溅射技术沉积了Ti/TiO2双层薄膜,得到了不同色彩的装饰膜.通过光学显微镜测试了薄膜表面形貌,分析了不同工作气压和溅射功率下Ti膜和TiO2膜表面孔洞产生的原因；利用UV-Vis分光光度计测量了薄膜的光学性能,发现单层Ti膜随着膜层厚度的增加,透射率降低、反射率先增加后降低,薄膜吸收率提高.根据TiO2薄膜的透射曲线峰值,计算得到TiO2薄膜折射率约为2.24.SEM分析

【作者】

：

孙杰赵青南董玉红

【机构】

：

武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,湖北武汉430070 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点

【出处】

：

2013全国玻璃科学技术年会

【发表日期】

：

2013年11期

【关键词】

：

Ti/TiO2装饰膜生产工艺磁控溅射技术性能表征

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