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介绍了一种合成金刚石薄膜的新方法即双阴极辉光放电合成金刚石薄膜法及其基本原理。采用该法在Si、Mo等基片上合成了金刚石薄膜，从其X-射线衍射分析及形貌显示薄膜的品质较为理想。
双阴极辉光放电合成金刚石薄膜的研究
【摘 要】
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介绍了一种合成金刚石薄膜的新方法即双阴极辉光放电合成金刚石薄膜法及其基本原理。采用该法在Si、Mo等基片上合成了金刚石薄膜，从其X-射线衍射分析及形貌显示薄膜的品质较为
【机 构】
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太原理工大学表面工程研究所
【出 处】
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1999年第二届表面工程国际会议
【发表日期】
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1999年期
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