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用反应磁控溅射技术在硬质合金表面沉积TiN涂层，最高显微硬度达到4000Kgf/mm以上。通过多因素多水平正交设计实验研究了工艺参数与显微硬度反晶体学取向间关系，并对不同硬质合金的TiN涂层作了比较。用Auger扫描显微探针进行了表面与深度部面分析，在电子显微镜（SEM）上观察了涂层断口形貌。（本刊录）