Ag/SiO2纳米复合物的制备及研究

• 作 者: 廖艳;霍纯青;蔡惠平;陈强;
• 机 构: 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室,北京,102600
• 出 处: 第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
• 发表日期: 2008年期

以HMDSO为单体,氩气为反应气体,采用磁控溅射等离子体技术在单晶硅,载玻片,KBr基片等的表面制备Ag/SiO2纳米复合物。用傅立叶红外透射光谱(FTIR),原子力显微镜(AFM)等手段对纳米复合物薄膜进行结构、亲疏水性和形貌分析。着重研究了等离子体工艺参数,工作气压等对沉积薄膜结构性能的影响。