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会议论文
LTCF技术及其发展趋势
LTCF技术及其发展趋势
来源 :第六届国内外磁学与磁性材料发展及应用技术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:CPhoenixEx
【摘 要】
:
本文简要介绍了低温共烧铁氧体(LTCF)技术的由来,报道了LTCF的关键制造工艺、主要应用领域以及国内外多元化发展趋势.
【作 者】
:
何水校
杨思勇
【机 构】
:
西南应用磁学研究所(四川绵阳)
【出 处】
:
第六届国内外磁学与磁性材料发展及应用技术交流会
【发表日期】
:
2003年2期
【关键词】
:
LTCF
低温共烧铁氧体
NiZnCu
制造工艺
多芯片组件
烧结
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本文简要介绍了低温共烧铁氧体(LTCF)技术的由来,报道了LTCF的关键制造工艺、主要应用领域以及国内外多元化发展趋势.
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