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场致发射技术的研究
场致发射技术的研究
来源 :第七届中国真空微电子学与场致发射学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wgy
【摘 要】
:
本文介绍了场致发射的机理及场致发射显示器件中几种不同类型的阴极,叙述了金刚石薄膜作为场致发射阴极的优点。掺杂的金刚石薄膜作为场致发射阴极有更低的发射阈值,文中给出了
【作 者】
:
唐敦乙
林书铨
张志明
沈荷生
李胜华
【机 构】
:
上海交通大学,HDTV研究所
【出 处】
:
第七届中国真空微电子学与场致发射学术年会
【发表日期】
:
1999年期
【关键词】
:
场致发射
金刚石薄膜
阴极
金铡石薄膜
显示器件
发射特性
掺杂
阈值
叙述
机理
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本文介绍了场致发射的机理及场致发射显示器件中几种不同类型的阴极,叙述了金刚石薄膜作为场致发射阴极的优点。掺杂的金刚石薄膜作为场致发射阴极有更低的发射阈值,文中给出了几种不同掺杂的金铡石薄膜的发射特性。
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