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利用原位发射谱技术对热丝化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜生长过程进行了研究.实验表明甲烷浓度对气相基团(如CH,CH<+>和H等)浓度影响很大,但对电子平均温度影响较小.
CVD金刚石薄膜生长过程中的原位光发射谱研究
【摘 要】
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利用原位发射谱技术对热丝化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜生长过程进行了研究.实验表明甲烷浓度对气相基团(如CH,CH和H等)浓度影响很大,但对电子平均温度影响较小.
【机 构】
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中国科学技术大学热(合肥)
【出 处】
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2000年中国博士后学术会议
【发表日期】
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2000年11期
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