【摘 要】
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目前看来,点光源X射线光刻技术是X射线光刻技术的重要发展方向.点光源X射线光刻技术表现出同步辐射X射线光刻技术不同的许多特性,如单色光、半阴影模糊、对准技术,等等.本文
【出 处】
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第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会
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目前看来,点光源X射线光刻技术是X射线光刻技术的重要发展方向.点光源X射线光刻技术表现出同步辐射X射线光刻技术不同的许多特性,如单色光、半阴影模糊、对准技术,等等.本文采用XOP软件对激光等离子体X射线点光源的功率谱进行了理论计算,并采用束衍射法对X射线掩模的光波导效应进行了模拟计算,使我们对点光源X射线光刻特性有了一个初步了解.
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