硅基硅酸铒(Er2SiO5)晶态薄膜制备及近红外(1.54μm)发光特性研究

来源 :第12届全国发光学学术会议暨发光学相关产业研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:godwin_z
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  要实现高集成度的硅基光波导放大器,掺铒硅基材料无疑是最合适的选择.然而常规掺杂路线所能实现的铒掺杂浓度不利于实现小尺寸的硅基光电集成所需掺铒光波导放大器(EDWA).在本文中我们致力于高铒掺杂浓度的铒硅酸盐晶态薄膜的制备、结构表征和物性研究.利用高纯铒的无机盐制备的螯合物,采用溶胶-凝胶方法并结合旋涂工艺制备出铒离子浓度可调(从0 at%到25 at%)的高质量和光滑表面形貌的铒硅酸盐晶态薄膜(ErXY2-xSiO5),实现高效的铒硅酸盐晶态薄膜近红外(1.54μm)发光.实验发现,最佳的铒离子浓度在0.2 at%,折合成体浓度在1019离子/cm3量级,如下图1所示.
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