【摘 要】
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采用直流磁控溅射在Si(100)基体上制备了La-Sr-Mn-O薄膜,溅射气体为Ar和O2的混合气体,沉积后对薄膜进行700℃/1h空气退火。本文研究了不同工艺参数条件下制备的薄膜的结构、金属-绝缘体转变和可变发射率特性,结果表明O2/(O2+Ar)体积比较小时,薄膜的金属-绝缘体转变温度TMI高,发射率变化量((H增大,最大的((H可达0.35。薄膜发射率(H(T)随温度升高而增大,并且在TMI
【机 构】
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哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,15001
【出 处】
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第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
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采用直流磁控溅射在Si(100)基体上制备了La-Sr-Mn-O薄膜,溅射气体为Ar和O2的混合气体,沉积后对薄膜进行700℃/1h空气退火。本文研究了不同工艺参数条件下制备的薄膜的结构、金属-绝缘体转变和可变发射率特性,结果表明O2/(O2+Ar)体积比较小时,薄膜的金属-绝缘体转变温度TMI高,发射率变化量((H增大,最大的((H可达0.35。薄膜发射率(H(T)随温度升高而增大,并且在TMI附近发生显著变化,此时薄膜由低发射率的金属态转变为高发射率的绝缘态。
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