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重掺杂硅单晶中氧沉淀的研究
重掺杂硅单晶中氧沉淀的研究
来源 :第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:backpacker
【摘 要】
:
该文利用化学腐蚀光学显微镜观察、X射线双晶衍射和透射电子显微镜(TEM)对重掺锑、重掺硼硅单晶在热处理过程中的氧沉淀行为进行了研究,讨论了掺杂剂对氧沉淀成核的影响。
【作 者】
:
刘彩池
会丙彦
郝秋艳
王庆禄
徐岳生
【机 构】
:
工业大学(天津)
【出 处】
:
第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
【发表日期】
:
1999年期
【关键词】
:
重掺杂硅单晶
透射电子显微镜
氧沉淀成核
显微镜观察
热处理过程
双晶衍射
化学腐蚀
重掺锑
重掺硼
掺杂剂
X射线
行为
光学
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该文利用化学腐蚀光学显微镜观察、X射线双晶衍射和透射电子显微镜(TEM)对重掺锑、重掺硼硅单晶在热处理过程中的氧沉淀行为进行了研究,讨论了掺杂剂对氧沉淀成核的影响。
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