InP/SiO<,2>纳米颗粒膜的非线性光学性质研究

• 作 者: 丁瑞钦[1]王浩[2]余卫龙[3]丘志仁[3]李润华[3]S.P.Wong[4]
• 机 构: 五邑大学薄膜与纳米材料研究所(江门)中山大学超快速激光光谱国家重点实验室(广州)
• 出 处: 第十五届全国激光学术会议
• 发表日期: 2001年期

采用脉冲高斯激光光束Z扫描方法测量了用磁控共溅射技术制备的InP/SiO<,2>纳米颗粒薄膜的非线性光学性质.测量结果表明,在激光波长为585nm(非共振)的条件下,经310℃退火的薄膜的非线性折射率系数γ的大小为10<-11>m<2>/W量级,比块材InP晶体相应的数值提高了5个数量级.薄膜的光学非线性对退火温度相当敏感.光学非线性增强主要起因于光致载流子的强量子限制效应和大量的局域态的振子强度的增强.