论文部分内容阅读
本文通过分析论证：一种将新颖的织构和残余应力方法整合入Rietveld方法,再与反射分析结合的完全分析方法已经发展起来.这种完全分析具有以下几个优点:反射得到的厚度可用于修正衍射谱,相分析有助于层的鉴定并确定反射的电子密度图;定量相和残余应力分析必须的定量织构数据;晶体结构鉴定又可完善前面的分析.有可能将它们整合入Rietveld法,即对谱线的全谱拟合.这些谱的测量需要一种特殊的反射/衍射仪,配置细平行光束(用于反射)和织构/应力测角仪及大弯曲位敏检测器.这种新型衍射/反射X-射线仪已被用于组合分析法测定.本文给出一些实例来表明用此种方法分析的可行性.