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AlN薄膜择优取向对其性能和应用具有重要影响。采用直流磁控溅射沉积技术制备高度取向的AlN薄膜。通过建立薄膜择优取向的XRD表征方法，研究了衬底温度、氮气浓度和工作气压对AlN薄膜择优取向的影响。
AlN薄膜择优取向XRD表征及其工艺影响
【摘 要】
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AlN薄膜择优取向对其性能和应用具有重要影响。采用直流磁控溅射沉积技术制备高度取向的AlN薄膜。通过建立薄膜择优取向的XRD表征方法，研究了衬底温度、氮气浓度和工作气压对A
【机 构】
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湖南大学材料科学与工程学院,长沙410082
【出 处】
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湖南省精密仪器测试学会2008年学术年会
【发表日期】
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2008年9期
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