【摘 要】
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To achieve power generation on inte-grated circuit (IC) chips, a hydrogenated amorphous silicon (a-Si∶H)/crystalline silicon (c-Si) heterojunction solar ce
【机 构】
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ResearchcenterforNewEnergyTechnology,ShanghaiInstituteofMicrosystemandInformationTechnology,235Cheng
【出 处】
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第13届全国博士生学术年会——新能源专题
论文部分内容阅读
To achieve power generation on inte-grated circuit (IC) chips, a hydrogenated amorphous silicon (a-Si∶H)/crystalline silicon (c-Si) heterojunction solar cell was designed and fabricated on silicon-on-insulator (SOI) substrate, where a 9-μm epitaxial p-type c-Si layer served as light absorption layer and the buried SiO2 (BOX) as back surface passivation layer.It was found that a 1-μm heavily doped thin p+-layer was vital for improving the cell performances.Efficiency up to 12.7% with an open-circuit voltage of 679.7 mV was achieved on a 1.0 cm2 square cell.Device performance was also investigated by annealing at different temperatures.The results suggested that relatively large thickness of a-Si∶H and transparent conductive oxide (TCO)layers could improve thermal stability of the solar cells at temperature above 300℃.
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