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埋点靶就是研究材料等容加热、等离子体柱状喷射和冲击波的传输和加热的基本靶型。本靶需要解决的问题：微米量级较大高宽比，壁面垂直光滑，间隙填充CH等。电子束、离子束、光刻等等，都各有其优缺点，单一方法无法完全满足需要。本文采用电子束、x射线刻蚀，用电镀和CVD方法制作出了高质量的样品。现将具体的制备过程进行介绍，并表征了微米点阵列。