【摘 要】
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单层过渡金属氧化物(TMOs)纳米片,尤其是最具代表性的氧化钨(WO3、WO3·H2O)纳米片由于其优异的性能和广泛的应用前景而受到广泛关注[1,2].然而,与具有层状晶体结构的过渡金属硫化物(TMDs)不同,由于其晶体结构中具有较强的面外原子键合力,大多数TMOs 很难直接剥离成纳米片[3,4].本文采用一种空间限域合成策略,成功制备出单层WO3 和WO3·H2O纳米片.以层状双氢氧化物(LDH
【机 构】
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山东大学化学与化工学院,山东省济南市山大南路27号,250100
【出 处】
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第十七届全国胶体与界面化学学术会议
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单层过渡金属氧化物(TMOs)纳米片,尤其是最具代表性的氧化钨(WO3、WO3·H2O)纳米片由于其优异的性能和广泛的应用前景而受到广泛关注[1,2].然而,与具有层状晶体结构的过渡金属硫化物(TMDs)不同,由于其晶体结构中具有较强的面外原子键合力,大多数TMOs 很难直接剥离成纳米片[3,4].本文采用一种空间限域合成策略,成功制备出单层WO3 和WO3·H2O纳米片.以层状双氢氧化物(LDHs)的层间空间作为纳米反应器,现将H2W12O40-6 插入其层间,然后经过煅烧,酸溶去除层板后制备单层WO3·H2O 纳米片,再经低温煅烧可直接转化为单层WO3 纳米片.LDHs 的层间空间只允许晶体的二维生长,故形成单层WO3·H2O 纳米片;在低温条件下煅烧WO3·H2O 纳米片,发现水分子被脱除过程可阻止纳米片的堆积,得到单层WO3 纳米片.AFM 表征表明确定WO3·H2O 和WO3 纳米片的厚度分别为~1.0 和1.3 nm,单层片率高达90%以上.采用TEM 表征了其晶体结构和形貌.本工作为宏量制备单层TMOs 纳米材料提供了一条有效的途径.
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