【摘 要】
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采用双离子束溅射(DIBS)工艺制备了Ta2O5/SiO2和Nb2O5/SiO2两种800 nm45°宽带p光高反镜。利用中心波长800 nmCPA系统分别输出40 fs和300 ps的p偏振光,对样品表面激光损
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所,强激光材料重点实验室,上海201800
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采用双离子束溅射(DIBS)工艺制备了Ta2O5/SiO2和Nb2O5/SiO2两种800 nm45°宽带p光高反镜。利用中心波长800 nmCPA系统分别输出40 fs和300 ps的p偏振光,对样品表面激光损伤行为进行研究。结果表明,在两种脉宽激光辐照下,Ta2Os/SiO2样品的单脉冲损伤阈值均比Nb2O5/SiO2样品高约20％。在40fs激光作用下,样品表现出本征的场诱导破坏特性；而在300ps激光辐照下,样品呈现缺陷诱导损伤行为。借助光学显微镜、扫描电镜对两种脉宽下典型的破坏形貌进行了表征。
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