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会议论文
STM大气中对PMMA曝光
STM大气中对PMMA曝光
来源 :第十届全国半导体集成电路、硅材料学术会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cdy516
【摘 要】
:
STM大气中对20nm厚PMMA进行曝光。他们解决了定位和显影问题,得了50nm宽的曝光线条。
【作 者】
:
田如江
韩阶平
【机 构】
:
科学院微电子中心(北京)
【出 处】
:
第十届全国半导体集成电路、硅材料学术会
【发表日期】
:
1997年期
【关键词】
:
大气中
曝光
线条
显影
定位
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STM大气中对20nm厚PMMA进行曝光。他们解决了定位和显影问题,得了50nm宽的曝光线条。
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