【摘 要】
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采用以醇盐水解法为基础的生长硅溶胶的方法,制备了300nm左右的单分散二氧化硅颗粒.以二氧化硅颗粒为核心,利用Al(NO)溶液注入二氧化硅颗粒与NaHCO的混合水溶液中发生水解沉淀反应,沉淀物在SiO核心颗粒上沉积的方法,制备得到Al(OH)/SiO复合颗粒.在证实注入进料方式有效性的同时,分析了各种反应条件对复合颗粒壳层微观形态和壳层厚度的影响,确定适宜的反应条件为:0.5M NaHCO浓度,2
【机 构】
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中国科学院过程工程研究所(北京) 石油大学(北京)重质油加工国家重点实验室(北京)
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采用以醇盐水解法为基础的生长硅溶胶的方法,制备了300nm左右的单分散二氧化硅颗粒.以二氧化硅颗粒为核心,利用Al(NO<,3>)<,3>溶液注入二氧化硅颗粒与NaHCO<,3>的混合水溶液中发生水解沉淀反应,沉淀物在SiO<,2>核心颗粒上沉积的方法,制备得到Al(OH)<,3>/SiO<,2>复合颗粒.在证实注入进料方式有效性的同时,分析了各种反应条件对复合颗粒壳层微观形态和壳层厚度的影响,确定适宜的反应条件为:0.5M NaHCO<,3>浓度,20g/L SiO<,2>颗粒浓度,0.15M Al(NO<,3>)<,3>进料溶液浓度,0.1mL/min Al(NO<,3>)<,3>溶液进料速度.在保证反应体系中无游离的Al(OH)<,3>二次核心出现的前提下,SiO<,2>核心颗粒上Al(OH)<,3>壳层最大厚度为33nm.
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