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采用磁过滤真空溅射离子技术，用氩和氮混合气体共溅射石墨靶制备含氮的四配位非晶碳薄膜，研究了氮分压对薄膜的拉曼光谱和表面形貌的影响。结果表明：随着氮分压的增加，膜中的类石墨畴增加，表面粗糙度也增加。
掺氮四配位非晶碳薄膜的结构与表面形貌
【摘 要】
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采用磁过滤真空溅射离子技术，用氩和氮混合气体共溅射石墨靶制备含氮的四配位非晶碳薄膜，研究了氮分压对薄膜的拉曼光谱和表面形貌的影响。结果表明：随着氮分压的增加，膜中的类石
【机 构】
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广州舰艇学院,中山大学
【出 处】
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1998年中国材料研讨会
【发表日期】
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1998年期
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