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光加热法用于YBCO薄膜淀积和处理初步实验
光加热法用于YBCO薄膜淀积和处理初步实验
来源 :第五届全国超导薄膜和超导电子器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong524
【摘 要】
:
用直流磁控溅方法用卤灯加热基片制备出了Tc~87~88K的YBCO超导薄膜。介绍了光 加热器的主要考虑及用于大面积薄膜制备的初步实验结果,对工艺中的有关问题进行了讨论。
【作 者】
:
汤延林
胡来平
张铮
刘兴华
张朝兴
【机 构】
:
合肥低温电子研究所(合肥)
【出 处】
:
第五届全国超导薄膜和超导电子器件学术会议
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
加热法
薄膜淀积
处理
直流磁控溅
卤灯加热
基片制备
超导薄膜
薄膜制备
加热器
大面积
实验
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用直流磁控溅方法用卤灯加热基片制备出了Tc~87~88K的YBCO超导薄膜。介绍了光 加热器的主要考虑及用于大面积薄膜制备的初步实验结果,对工艺中的有关问题进行了讨论。
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