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化學濾綱普遍應用於半導體積體電路製程環境的氣態微污染控制,本研究目的即針對無麈室常見之有機鹼性微污染物「甲基吡咯烷酮」 (N-methyl pyrrolidinone,NMP)之去除進行測試.本研究以檸檬酸作為活性碳含浸溶液,活性碳上檸檬酸的批覆量隨檸檬酸之含浸液濃度越高而相對增加,含浸條件以濃度3.0 M、時間3小時效果最佳,並藉由FTIR觀察含浸過後活性碳上含有明顯之羧基團出現.