高纯银中痕量杂质的电感耦合等离子体质谱测定方法研究

• 作 者: 刘湘生 田雪峰 张安定 刘玉龙
• 机 构: 北京有色金属研究总院(北京)
• 出 处: 第八届有色金属化学与电化学分析、第六届有色金属色谱分析、第四届有色金属物理检测、首届有色金属质朴分析学术交流会、第九届轻
• 发表日期: 2004年11期
• 关键词: 银 痕量杂质 电感耦合 等离子体质 质谱分析 分析化学

以往银中杂质测定多采用化学法、发射光谱法、ICP-AES法,在测定高纯银中杂质时,往往还需要化学前处理过程,分析流程长且易沾污.银同位素的质量数较大,很适合ICP-MS测定.本项研究通过对干扰的考察、测定同位素的选择、参数的优化和内标法的考察、测定同位素的选择、参数的优化和内标法等项试验,建立高纯银中Li、Cr、Mn、Ni、Co、Cu、Sr、Mo、Cd、Bi等痕量杂质的ICP-MS直接测定方法.