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高分子材料的XPS分析，尤其是深度剖析，在过去一直存在较大的困难.原因主要有二：一，高分子材料在高强度X射线照射下易损伤；二，传统Ar离子枪的难以对高分子材料进行有效刻蚀.DLD非扫描快速谱和多原子高压离子枪等新技术解决了这些难题，从而可以对高分子材料进行有效的XPS深度剖析.
高分子材料的XPS深度剖析技术进展
【摘 要】
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高分子材料的XPS分析，尤其是深度剖析，在过去一直存在较大的困难.原因主要有二：一，高分子材料在高强度X射线照射下易损伤；二，传统Ar离子枪的难以对高分子材料进行有效刻蚀.DLD
【机 构】
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科锐拓技术(北京)有限公司
【出 处】
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第二届陕西省青年高分子论坛
【发表日期】
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2014年10期
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