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5. Catalysis in Thermal Atomic Layer Deposition of SiO2 with Lewis Acid and Base Catalysts

Catalysis in Thermal Atomic Layer Deposition of SiO2 with Lewis Acid and Base Catalysts

来源 :第十五届全国青年催化学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ZLF308440423

【作 者】

：

Guo-Yong Fang Li-Na Xu 

【机 构】

：

College of Chemistry and Materials Engineering,Wenzhou University,Wenzhou 325035

【出 处】

：

第十五届全国青年催化学术会议

【发表日期】

：

2015年期

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