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本文从模拟仿真的角度，分析了增强后的辐射阻尼效应对成像信号的影响，建立了正反馈增强模拟算法，探究了辐射阻尼对于成像信号的影响规律。结果表明辐射阻尼正反馈增强可以改善成像信息，通过选取最优化的系统参数，成像对比度可以在很大程度上得到提高，尤其是对于检测线圈品质因数相对比较低的成像仪器，效果更加明显。另外将辐射阻尼的这些特性进一步结合到新的成像方法中，将对探索辐射阻尼在成像领域的新应用有很大帮助。