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第一性原理研究HfO2薄膜中的磁性
第一性原理研究HfO2薄膜中的磁性
来源 :中国物理学会2013年秋季学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gx7411
【摘 要】
:
2004 年,M.Venkatesan 等人[1]报道了未经掺杂的单斜结构的HfO2 薄膜中具有铁磁性,J.M.D.Coey[2]以及N.H.Hong [3]等人在实验上进一步证实了这一现象,很显然这一发现挑战了我们对传统磁学的认识,成为研究的热点.
【作 者】
:
王敏
左旭
【机 构】
:
南开大学信息技术科学学院,天津,300071
【出 处】
:
中国物理学会2013年秋季学术会议
【发表日期】
:
2013年11期
【关键词】
:
HfO2
表面
氧空位
磁性
第一性原理计算
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2004 年,M.Venkatesan 等人[1]报道了未经掺杂的单斜结构的HfO2 薄膜中具有铁磁性,J.M.D.Coey[2]以及N.H.Hong [3]等人在实验上进一步证实了这一现象,很显然这一发现挑战了我们对传统磁学的认识,成为研究的热点.
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