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首次采用恒电流电沉积方式在ｐ型Ｓｉ（１１１）上制备出Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜。考察了电沉积条件对镀层组成的影响，确定了制备表面致密、具有良好结合力的Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜的最佳工艺条件。
p型Si上电沉积Ni-W-P合金薄膜
【摘 要】
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首次采用恒电流电沉积方式在ｐ型Ｓｉ（１１１）上制备出Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜。考察了电沉积条件对镀层组成的影响，确定了制备表面致密、具有良好结合力的Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜的最佳工艺条件。
【机 构】
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大学应用化学系
【出 处】
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中国机械工程学会第五届全国电镀与精饰学术年会
【发表日期】
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1997年期
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