a-SiC<,x>N<,y>:H薄膜光学测试

• 作 者: 吴现成;王印月;
• 机 构: 大学物理系
• 出 处: 第六届全国固体薄膜学术会议
• 发表日期: 1998年期
• 关键词: 反应溅射 薄膜 光学特性

对室温下利用射频反应溅射技术制备的氢化非晶硅碳氮薄膜（a-SiC<,x>N<,y>:H）进行了傅立叶变换红外反素外-可见-近红外光学测试，发现由于薄膜中同时存在碳、氮元素，薄膜结构和特性明显地受薄膜组份的调制，高氮含量薄膜无规网络因C≡N键的存在而得到软化，高温（800℃）退火实验表明，富氮a－sic<,x>N<,y>：H薄膜有良好的热稳定性。