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Al、Ti缓冲层上TiN薄膜机械及光学特性研究

来源 :2014中国功能材料科技与产业高层论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户：weicengh
【摘 要】
：
实验采用DC磁控溅射技术,分别在Al、Ti缓冲层上沉积了TiN陶瓷薄膜.利用X射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、纳米压痕测试和紫外-可见-近红外光谱分别分析了TiN薄膜的结构、机械和光学特性.XRD及Raman结果表明Al/TiN和Ti/TiN均为多晶的TiN,且都具有TiN(111)方向的择优生长.
【作 者】
：
张美杰 王静 顾广瑞 吴宝嘉 田宏伟 
【机 构】
：
延边大学物理系,延吉133002 吉林大学材料科学学院,长春130012
【出 处】
：
2014中国功能材料科技与产业高层论坛
【发表日期】
：
2014年2期
【关键词】
：
金属缓冲层 磁控溅射 机械性能 光学性能 
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　　实验采用DC磁控溅射技术,分别在Al、Ti缓冲层上沉积了TiN陶瓷薄膜.利用X射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、纳米压痕测试和紫外-可见-近红外光谱分别分析了TiN薄膜的结构、机械和光学特性.XRD及Raman结果表明Al/TiN和Ti/TiN均为多晶的TiN,且都具有TiN(111)方向的择优生长.
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